智研咨询发布—中国光刻胶行业现状、发展环境及投资前景分析报告.docx
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1、智研咨询发布中国光刻胶行业现状、发展环境及投资前景分析报告一、现状光刻胶又称“光致抗蚀剂”,是光刻成像的承载介质,其作用是利用光化学反应的原理将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息转化为化学能量,进而完成掩模图形的复制。一定程度上来说,光刻出的电路图案越精密,就代表着芯片性能越好。采用不同的光刻光线,对应地需要搭配不同的光刻胶。目前,根据不同的光波长,光刻胶大致可以分为G线、I线、KrF、ArF、EUV这几类。近年来,随着半导体行业的蓬勃发展,尤其是下游晶圆厂产能扩建带来的的庞大需求,光刻胶市场需求保持了良好的增长态势。据TECHCET数据显示,2021年全球光刻胶市场规模约22亿美元,同比增涨
2、7.84%。2016-2021年全球半导体光刻胶市场规模统计资料来源:ResearchAndMarkets 、TECHCET、智研咨询整理国内光刻胶原料生产领域尚处于起步阶段,呈现出产品种类较少、生产规模较小的特征。2020年中国大陆光刻胶市场规模约84亿元,预计到2024年,中国大陆光刻胶市场规模将增长至140亿元以上,复合增长率约10%。2020-2024年中国大陆光刻胶市场规模及预测资料来源:ResearchAndMarkets、Cision、智研咨询整理根据TECHCET统计,2020年ArF干式和浸没式光刻胶占据了48%的市场份额,KrF和G线/I线光刻胶分别占据34%和16%的市场
3、份额。预计至2025年ArF干式及浸没式光刻胶仍然能占据45%的市场份额。2020年各类光刻胶占比情况资料来源:TECHCET、智研咨询整理相关报告:智研咨询发布的中国光刻胶行业市场深度分析及未来趋势预测报告二、重点企业对比伴随全球半导体产业东移,加上我国持续增长的下游需求和政策支持力度,越来越多的企业进入到了这个行业。其中,南大光电、晶瑞电材、彤程新材和上海新阳是我国最早规模量产光刻胶的为数不多的几家企业之一。南大光电VS晶瑞电材VS彤程新材VS上海新阳资料来源:公司官网、企查查、智研咨询整理从南大光电、晶瑞电材、彤程新材和上海新阳光刻机产品看,晶瑞电材拥有最多的光刻胶产品,晶瑞电材拥有负型
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